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從國(guó)內(nèi)市場(chǎng)看，超凈高純?cè)噭┬袠I(yè)內(nèi)的企業(yè)數(shù)量較#，2017年我國(guó)行業(yè)企業(yè)數(shù)量共有##家，其中規(guī)模以上
中國(guó)超凈高純?cè)噭┬袠I(yè)發(fā)展歷程。我國(guó)超凈高純?cè)噭┑难兄破鸩接谄呤甏衅凇?980年，北京化學(xué)試劑研究所在國(guó)內(nèi)率先研制成功適合中小規(guī)模集成電路5μm技術(shù)用的22種MOS級(jí)（按照國(guó)內(nèi)常用分級(jí)法，低于BV-I級(jí)）試劑。
超凈高純?cè)噭┰诠夥袠I(yè)中的應(yīng)用。光伏發(fā)電是指利用半導(dǎo)體界面的光生伏特效應(yīng)將光能轉(zhuǎn)變?yōu)殡娔艿囊环N技術(shù)。
超凈高純?cè)噭┰谄桨屣@示器行業(yè)中的應(yīng)用。顯示器分為平板顯示器（FPD）和陰極射線管顯示器（CRT）。相對(duì)于傳統(tǒng)的陰極射線管顯示來(lái)說(shuō)，平板顯示（FPD）具有節(jié)能環(huán)保、低輻射、重量輕、厚度雹體積小等優(yōu)點(diǎn)，已成為顯示技術(shù)發(fā)展的主流方向。
超凈高純?cè)噭┰诩呻娐沸袠I(yè)的應(yīng)用。清洗工藝是微電子加工中最基礎(chǔ)的工藝。隨著集成度不斷提高，線寬不斷減小，對(duì)硅襯底片的表面質(zhì)量要求也越來(lái)越高。
超凈高純?cè)噭┬袠I(yè)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格與功能概況。由于世界超凈高純?cè)噭┦袌?chǎng)的不斷擴(kuò)大，從事超凈高純?cè)噭┭芯颗c生產(chǎn)的廠家及機(jī)構(gòu)也在增多，生產(chǎn)規(guī)模在不斷擴(kuò)大。但各生產(chǎn)廠家所生產(chǎn)的超凈高純?cè)?劑 的 標(biāo) 準(zhǔn) 各 不 相 同 。
超凈高純?cè)噭┬袠I(yè)概況與特點(diǎn)分析。20 世紀(jì) 50 年代以后，電子信息、材料科學(xué)、航天軍工、生命科學(xué)和生物工程等新興工業(yè)的空前發(fā)展，要求化學(xué)試劑工業(yè)提供成千上萬(wàn)個(gè)新品種以滿足不同需求。
國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體行業(yè)超凈高純?cè)噭┗厩闆r簡(jiǎn)介。超凈高純?cè)噭?，又稱工藝化學(xué)品，是指主體成分純度大于 99.99%，雜質(zhì)離子和微粒數(shù)符合嚴(yán)格要求的化學(xué)試劑，是大規(guī)模集成電路和超大規(guī)模集成電路制造的關(guān)鍵性配套材料，主要用于芯片的清洗、蝕刻，以及高能電池電解液、電子元器件、高端通用芯片、分立器、平板顯示器、太陽(yáng)能電池、光電玻璃等制造領(lǐng)域。
