一、光刻膠由三種主要成分組成，其中樹脂成本占比最高
根據(jù)觀研報告網(wǎng)發(fā)布的《中國光刻膠行業(yè)發(fā)展趨勢分析與未來前景預測報告（2024-2031年）》顯示，光刻膠，又稱光致抗蝕劑，是一種在特定光源（如紫外光、電子束、離子束、X射線等）照射下，其溶解度會發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成，是一種對光敏感的混合液體。
原材料的質(zhì)量和性能直接影響到光刻膠的最終品質(zhì)。其中，樹脂是光刻膠的主要成膜物質(zhì)，對光刻膠的性能有重要影響，占成本約50%。光引發(fā)劑又稱光敏劑或光困化劑，對于光刻膠的感光度和分辨率有著重要的影響，成本占比15%。溶劑為光刻膠各組成部分提供溶液環(huán)境，使各部分溶解在一起，同時也是后續(xù)光刻化學反應的介質(zhì)，占成本約5%。添加劑用來控制和改變光刻膠材料的特定化學性質(zhì)或光響應特性，占成本約30%。
光刻膠原材料簡介
| 原材料 | 簡介 |
| 樹脂 | 光刻膠的主要組成部分，它決定了光刻膠的粘附性、化學抗蝕性、膠膜厚度等基本性能。樹脂在顯影液中的溶解度由光引發(fā)劑在光化學反應中的產(chǎn)物改變，從而幫助完成光刻。 |
| 光引發(fā)劑 | 又稱光敏劑或光困化劑，屬于能從光中吸收一定波長的能量，經(jīng)過光化學反應產(chǎn)生具有引發(fā)聚合能力的活性中間體的分子。光引發(fā)劑對于光刻膠的感光度和分辨率有著重要的影響，光增感劑、光致產(chǎn)酸劑都是幫助光引發(fā)劑發(fā)揮作用的物質(zhì)。 |
| 溶劑 | 為光刻膠各組成部分提供溶液環(huán)境，使各部分溶解在一起，同時也是后續(xù)光刻化學反應的介質(zhì)。 |
| 添加劑 | 控制光刻膠材料特殊方面的化學性質(zhì)，用來控制和改變光刻膠材料的特定化學性質(zhì)或光響應特性。 |
資料來源：觀研天下整理
數(shù)據(jù)來源：觀研天下數(shù)據(jù)中心整理
二、光刻膠下游產(chǎn)業(yè)涵蓋多個高科技領(lǐng)域，國內(nèi)市場不斷擴容
光刻膠的下游產(chǎn)業(yè)涵蓋了多個高科技領(lǐng)域。隨著半導體、印制電路板、顯示面板產(chǎn)業(yè)鏈向中國轉(zhuǎn)移，近年來，我國光刻膠市場顯著擴容。
光刻膠下游應用情況
| 下游領(lǐng)域 | 光刻膠應用情況 |
| PCB（印制電路板） | 光刻膠在PCB制造中用于形成精細的電路圖案，是PCB生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵材料。 |
| 顯示面板 | 顯示面板光刻膠中的彩色光刻膠和黑色光刻膠用于制造顯示面板中的彩色濾光片；觸摸屏光刻膠用于制作觸摸電極；TFT-LCD 光刻膠用于加工液晶面板前段 Array 制程中的微細圖形電極，主要用于電視、平面顯示器和投影機上。 |
| 半導體 | 光刻膠在半導體制造過程中起著至關(guān)重要的作用，用于形成微細圖形。根據(jù)曝光光源波長的不同，半導體光刻膠可分為g線光刻膠、i線光刻膠、KrF光刻膠、ArF光刻膠和EUV光刻膠等。其中 ArF 光刻膠已是半導體光刻膠中最大細分產(chǎn)品，占比超50%。 |
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數(shù)據(jù)顯示，2019-2023年我國光刻膠市場規(guī)模由81.4億元增長至109.2億元，年復合增長率為7.6%；預計2024年我國光刻膠市場規(guī)模達114.4億元，較上年同比增長4.8%。
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三、政策支持力度加大，我國光刻膠企業(yè)正逐步突破行業(yè)壁壘
光刻膠作為光刻工藝的核心，配方研發(fā)及生產(chǎn)工藝要求極高；光刻機設(shè)備購置及維護成本高，對光刻膠公司設(shè)備投入要求較高；下游晶圓廠與光刻膠供應廠商的粘性較強，光刻膠產(chǎn)品替代驗證的時間成本極高。
光刻膠行業(yè)壁壘
| 壁壘 | 簡介 |
| 技術(shù) | 配方是光刻膠的核心技術(shù)。各廠商的配方難以通過分析市場上的成品來獲得。為實現(xiàn)與已有供應商產(chǎn)品的性能和參數(shù)的完全匹配，光刻膠廠商首先需要對成百上千個樹脂、光酸和添加劑進行排列組合，其次還要不斷對各成分的比例進行調(diào)整，以實現(xiàn)和現(xiàn)有產(chǎn)品關(guān)鍵參數(shù)的完全匹配，這需要足夠的研發(fā)資源、經(jīng)驗積累。 |
| 設(shè)備 | 光刻膠需要通過相應的光刻機進行測試和調(diào)整，目前國際光刻機龍頭廠商所在地區(qū)對我國實施技術(shù)封鎖，國產(chǎn)光刻機產(chǎn)品較少，且技術(shù)水準與海外龍頭有較大差距，可供光刻膠廠商測試的資源較少。此外光刻機的購置和測試成本高昂，資金投入要求極高 |
| 客戶 | 由于光刻膠的品質(zhì)會直接影響芯片性能、良率等，試錯成本高，客戶驗證需要經(jīng)過PRS（基礎(chǔ)工藝考核）、STR（小批量試產(chǎn)）、MSTR（中批量試產(chǎn)）、RELEASE（量產(chǎn)）四個階段，驗證周期在兩年以上；此外光刻膠廠商的原材料供應商也必須得到下游晶圓廠的認可，因此下游晶圓廠與光刻膠供應廠商的粘性較強，光刻膠產(chǎn)品替代驗證的時間成本極高。 |
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光刻膠行業(yè)面臨著技術(shù)、設(shè)備、高客戶需求的挑戰(zhàn)，行業(yè)壁壘較高，市場主要集中在日本和歐美企業(yè)手中。隨著國際環(huán)境變化，光刻膠供應鏈風險增加，國產(chǎn)替代需求增多。在此背景下，國家加大對光刻膠行業(yè)的扶持力度，國內(nèi)光刻膠企業(yè)迎來利好，逐步突破行業(yè)壁壘，提高自給率。
我國光刻膠行業(yè)相關(guān)政策
| 時間 | 政策 | 主要內(nèi)容 |
| 2024.03 | 《關(guān)于做好2024年享受稅收優(yōu)惠政策的集成電路企業(yè)或項目、軟件企業(yè)清單制定工作有關(guān)要求的通知》 | 光刻膠生產(chǎn)企業(yè)入圍“清單”，可享受稅收優(yōu)惠政策。 |
| 2023.12 | 《產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整指導目錄(2024年本)》 | 將“信息產(chǎn)業(yè)-電子元器件生產(chǎn)專用材料:濕化學品、電子特氣、光刻膠等工藝與輔助材料等”列為鼓勵類。 |
| 2023.12 | 《工業(yè)戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)分類目錄(2023) | 將“專用化學品及材料制造-電子專用材料制造-光刻膠及配套試劑(集成電路)”列為戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)。 |
| 2023.12 | 《重點新材料首批次應用示范指導目錄 (2024年版)》 | 將“集成電路用光刻膠及其關(guān)鍵原材料和配套試劑、平板顯示用光刻膠及其關(guān)鍵原材料和配套試劑”列為關(guān)鍵戰(zhàn)略材料。 |
| 2023.03 | 《國務院關(guān)于印發(fā)新時期促進集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展若干政策的通知》 | 包括生產(chǎn)光刻膠在內(nèi)的集成電路產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵原材料、零配件企業(yè)被納入享受稅收優(yōu)惠政策的清單。 |
| 2022.10 | 《鼓勵外商投資產(chǎn)業(yè)目錄(2022年版)》 | 將“計算機、通信和其他電子設(shè)備制造業(yè)-高純電子化學品、高性能光刻膠開發(fā)、生產(chǎn)”列為全國鼓勵外商投資產(chǎn)業(yè)目錄。 |
| 2022.08 | 《實施方案原材料工業(yè)“三品”》 | 將“新材料產(chǎn)品-高溫合金、航空輕合金材料、超高純稀土金屬及化合物、高性能特種鋼、可降解生物材料、特種涂層、光刻膠、靶材、拋光液等”列為原材料品種培優(yōu)工程。 |
| 2021.12 | 《重點新材料首批次應用示范指導目錄(2021年版)》 | 將集成電路用光刻膠及其關(guān)鍵原材料和配套試劑等列為重點新材料。 |
| 2021.12 | 《“十四五”原材料工業(yè)發(fā)展規(guī)劃》 | 提出要促進產(chǎn)業(yè)供給高端化，突破關(guān)鍵材料，圍繞大飛機、航空發(fā)動機、集成電路、信息通信、生物產(chǎn)業(yè)和能源產(chǎn)業(yè)等重點應用領(lǐng)域，攻克光刻膠在內(nèi)的一批關(guān)鍵材料和重點品種。 |
| 2021.05 | 《關(guān)于做好享受稅收優(yōu)惠政策的集成電路企業(yè)或項目、軟件企業(yè)清單制定工作有關(guān)要求的通知》 | 光刻膠生產(chǎn)企業(yè)入圍“清單”，可享受稅收優(yōu)惠政策 |
| 2020.12 | 《關(guān)于促進集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展企業(yè)所得稅政策的公告》 | 國家鼓勵的集成電路線寬小于28納米(含)，且經(jīng)營期在15年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項目，第一年至第十年免征企業(yè)所得稅;國家鼓勵的集成電路線寬小于65納米(含)，且經(jīng)營期在15年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項目，第一年至第五年免征企業(yè)所得稅，第六年至第十年按照25%的法定稅率減半征收企業(yè)所得稅;國家鼓勵的集成電路線寬小于150納米(含)，且經(jīng)營期在10年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項目，第一年至第二年免征企業(yè)所得稅，第三年至第五年按照25%的法定稅率減半征收企業(yè)所得稅 |
| 2020.07 | 《新時期促進集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展的若干政策》 | 國家鼓勵的集成電路設(shè)計、裝備、材料、封裝、測試企業(yè)和軟件企業(yè)，自獲利年度起，第一年至第二年免征企業(yè)所得稅，第三年至第五年按照25%的法定稅率或減半征收企業(yè)所得稅。 |
資料來源：觀研天下整理
目前，生產(chǎn)技術(shù)難度較低的PCB光刻膠國產(chǎn)化程度較高，面板光刻膠和半導體光刻膠國產(chǎn)化率提升空間較大。
光刻膠國產(chǎn)化情況
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分類標準 |
主要品種 |
國產(chǎn)化率 |
國內(nèi)公司 |
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PCB光刻膠 |
干膜光刻膠 |
幾乎全進口 |
- |
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濕膜及阻焊油墨 |
50% |
容大感光、東方材料、飛凱科技、北京力拓達等 |
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|
LCD光刻膠 |
彩色光刻膠 |
永太科技、雅克科技、晶瑞電材等 |
|
|
黑色光刻膠 |
5% |
上海新陽、江蘇博硯等 |
|
|
TFT-LCD正性光刻膠 |
大部分進口 |
蘇州瑞紅、北京科華、容大感光等 |
|
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半導體光刻膠 |
g線 |
10% |
蘇州瑞紅、北京科華、容大感光等 |
|
i線 |
10% |
||
|
KrF |
1% |
上海新陽、南大光電、蘇州瑞紅、北京科華等 |
|
|
ArF |
1% |
||
|
EUV |
研發(fā)階段 |
北京科華(02專項) |
資料來源：觀研天下整理（zlj）
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