全球光刻機(jī)銷量整體上升 中低端產(chǎn)品為主流 中國(guó)國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊

1.全球光刻機(jī)銷量整體上升

根據(jù)觀研報(bào)告網(wǎng)發(fā)布的《中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)分析與未來(lái)投資預(yù)測(cè)報(bào)告（2024-2031年）》顯示，光刻機(jī)又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，是一種用于制造?半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵設(shè)備，通過(guò)類似照片沖印的技術(shù)，將掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到?硅片上。?其廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)，是制造高端芯片不可或缺的設(shè)備，技術(shù)水平和制造精度直接影響到芯片的性能和制程水平。因此，光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展與半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展息息相關(guān)。數(shù)據(jù)顯示，近年來(lái)全球半導(dǎo)體行業(yè)穩(wěn)步發(fā)展，銷售規(guī)模呈現(xiàn)整體擴(kuò)大態(tài)勢(shì)，由2016年的3400億美元上升至2022年的5740億美元，年均復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)到9.12%。在半導(dǎo)體行業(yè)推動(dòng)下，全球光刻機(jī)銷量也整體呈現(xiàn)上升態(tài)勢(shì)，由2016年的245臺(tái)上升至2022年的510臺(tái)，年均復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)到13%。

數(shù)據(jù)來(lái)源：SIA、觀研天下整理

數(shù)據(jù)來(lái)源：公開(kāi)資料、觀研天下整理

2.全球光刻機(jī)市場(chǎng)以中低端產(chǎn)品為主

據(jù)悉，光刻機(jī)可分為直寫(xiě)光刻機(jī)與掩膜光刻機(jī)，主要有i-Iine（汞線）、KrF（氟化氪）、ArF（氟化氬）、ArFi（浸潤(rùn)式氟化氬）、EUV（極紫外）五大類。其中，i-Iine（汞線）、KrF（氟化氪）光刻機(jī)是光刻機(jī)市場(chǎng)中的中低端產(chǎn)品，2022年銷量合計(jì)占比71.5%，是全球光刻機(jī)市場(chǎng)中的主流產(chǎn)品；ArF（氟化氬）和ArFi（浸潤(rùn)式氟化氬）光刻機(jī)為高端產(chǎn)品，2022年合計(jì)占比21.2%；EUV（極紫外）光刻機(jī)為超高端產(chǎn)品，銷量占比僅為7.3%。

2022年全球各類光刻機(jī)銷量占比情況

數(shù)據(jù)來(lái)源：公開(kāi)資料、觀研天下整理

3.全球光刻機(jī)市場(chǎng)呈現(xiàn)寡頭壟斷格局

光刻機(jī)被稱為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠，是技術(shù)難度、價(jià)值量最高的半導(dǎo)體設(shè)備，技術(shù)復(fù)雜度和制造難度極高，核心技術(shù)掌握在全球少數(shù)幾家公司手中。同時(shí)，光刻機(jī)行業(yè)還存在較高的人才和資金壁壘，行業(yè)進(jìn)入門(mén)檻高。也因此，全球光刻機(jī)市場(chǎng)呈現(xiàn)寡頭壟斷競(jìng)爭(zhēng)格局，來(lái)自荷蘭的ASML獨(dú)占了全球70%以上的市場(chǎng)份額，2022年達(dá)到82.10%；其次是日本的Canon，達(dá)到10.2%。從2023年全球光刻機(jī)的銷量來(lái)看，ASML龍頭地位穩(wěn)固，銷量穩(wěn)居世界第一，達(dá)到449臺(tái)，幾乎是排名第二的Canon和第三的Nikon兩家公司銷量總和的2倍。

資料來(lái)源：觀研天下整理

數(shù)據(jù)來(lái)源：公開(kāi)資料、觀研天下整理

數(shù)據(jù)來(lái)源：各公司官網(wǎng)、觀研天下整理

4.中國(guó)光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊

我國(guó)是全球最大的半導(dǎo)體市場(chǎng)，芯片銷售規(guī)模約占全球的1/3，對(duì)光刻機(jī)的需求量大。但我國(guó)光刻機(jī)行業(yè)起步較晚且技術(shù)壁壘高筑，目前其國(guó)產(chǎn)化率不足5%，需要大量依靠進(jìn)口補(bǔ)充。同時(shí)面對(duì)其他國(guó)家光刻機(jī)、芯片等產(chǎn)品的出口限制，實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)替代勢(shì)在必行, 進(jìn)口替代空間廣闊。

不過(guò)，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)已經(jīng)有了重大突破。2024年9月，為促進(jìn)首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備創(chuàng)新發(fā)展和推廣應(yīng)用，加強(qiáng)產(chǎn)業(yè)、財(cái)政、金融、科技等國(guó)家支持政策的協(xié)同，工業(yè)和信息化部發(fā)布《首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》。其中，在電子專用設(shè)備一欄，氟化氪光刻機(jī)、氟化氬光刻機(jī)位列其中。據(jù)悉，中國(guó)首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備是指國(guó)內(nèi)實(shí)現(xiàn)重大技術(shù)突破、擁有知識(shí)產(chǎn)權(quán)、尚未取得明顯市場(chǎng)業(yè)績(jī)的裝備產(chǎn)品。這也意味著入選的兩款光刻機(jī)產(chǎn)品均由我國(guó)自主研發(fā)而成，且已經(jīng)擁有氟化氬光刻機(jī)這一高端產(chǎn)品。未來(lái)，隨著光刻機(jī)技術(shù)不斷突破和利好政策持續(xù)推動(dòng)，預(yù)計(jì)我國(guó)光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程將會(huì)持續(xù)推進(jìn)，國(guó)產(chǎn)化率或?qū)⒉粩嗵岣?。（WJ）